文献
J-GLOBAL ID:200902118670602560
整理番号:93A0649226
コリメーションスパッタ法によるTi膜の堆積 (II)
Properties of Ti Film Deposited by Collimation Sputtering. (II).
-
出版者サイト
複写サービスで全文入手
{{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=93A0649226©=1") }}
-
高度な検索・分析はJDreamⅢで
{{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=93A0649226&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Y0054A") }}