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J-GLOBAL ID：200902118690260967   整理番号：99A0405834

能動的酸化から受動的酸化へ Si(111)7×7上のO₂

From active to passive oxidation: O₂ on Si(111) 7×7.

著者 (4件)： HILDEBRANDT S (Martin-Luther-Univ. Halle-Wittenberg, Halle, DEU) ,  KRAUS A (Martin-Luther-Univ. Halle-Wittenberg, Halle, DEU) ,  KULLA R (Martin-Luther-Univ. Halle-Wittenberg, Halle, DEU) ,  NEDDERMEYER H (Martin-Luther-Univ. Halle-Wittenberg, Halle, DEU)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 141  号： 3/4  ページ： 294-304  発行年： 1999年03月 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Si(111)7×7表面と酸素との相互作用を種々の温度(35...

シソーラス用語： *ケイ素 ,...

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分類 (2件)： その他の無触媒反応  (CB06070U) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (3件)： 酸化 ,  Si ,  O2