文献
J-GLOBAL ID：200902118748128649
整理番号：94A0078986
Measurements of SiH3 and SiH2 radical densities in RF silane plasmas using laser spectroscopic techniques.
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著者 (1件)：
資料名：
ページ：
3-12
発行年：
1993年
JST資料番号：
K19930659
ISBN：
1-55899-193-X
資料種別：
会議録 (C)
発行国：
アメリカ合衆国 (USA)
言語：
英語 (EN)
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