文献
J-GLOBAL ID:200902118748128649
整理番号:94A0078986
Measurements of SiH3 and SiH2 radical densities in RF silane plasmas using laser spectroscopic techniques.
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著者 (1件):
資料名:
ページ:
3-12
発行年:
1993年
JST資料番号:
K19930659
ISBN:
1-55899-193-X
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)
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