文献
J-GLOBAL ID：200902119535703441   整理番号：96A0958153

Resist Metrology for Lithography Simulation. Part 2. Development Parameter Measurements.

著者 (4件)：
SEKIGUCHI A

SEKIGUCHI A について

(Litho Tech Japan Corp., Saitama, JPN)

Litho Tech Japan Corp., Saitama, JPN について

, 
MACK C A

MACK C A について

(FINLE Technol., Inc., TX)

FINLE Technol., Inc., TX について

, 
MINAMI Y

MINAMI Y について

(Litho Tech Japan Corp., Saitama, JPN)

Litho Tech Japan Corp., Saitama, JPN について

, 
MATSUZAWA T

MATSUZAWA T について

(Litho Tech Japan Corp., Saitama, JPN)

Litho Tech Japan Corp., Saitama, JPN について


資料名：
Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)

Proceedings of SPIE について


巻： 2725  ページ： 49-63  発行年： 1996年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

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