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J-GLOBAL ID：200902119563716460   整理番号：00A0622225

微小接合を考慮した超伝導素子の作製プロセス

Making Process of a Super-Conductive Very Small Junction Device.
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著者 (1件)：
石井孝一

石井孝一 について

(木更津工高専)

木更津工高専 について


資料名：
木更津工業高等専門学校紀要  (Bulletin of Kisarazu National Technical College)

木更津工業高等専門学校紀要 について


号： 32  ページ： 7-10  発行年： 1999年01月29日 
JST資料番号： S0774A  ISSN： 0285-7901  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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接合面積の小さいSIS素子の新規な作製プロセスを提案した。一...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*SIS構造

SIS構造 について

,...
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分類 (1件)：
分類
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Josephson接合・素子 
(BM04043E)

Josephson接合・素子 について

タイトルに関連する用語 (4件)：
タイトルに関連する用語
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超伝導素子

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, 
作製

作製 について

, 
プロセス

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