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J-GLOBAL ID：200902120224217550   整理番号：02A0322968

光誘起化学蒸着により堆積したTiO2の評価

Characterisation of TiO2 deposited by photo-induced chemical vapour deposition.
著者 (3件)：
KALIWOH N

KALIWOH N について

(Univ. Coll. London, London, GBR)

Univ. Coll. London, London, GBR について

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ZHANG J-Y

ZHANG J-Y について

(Univ. Coll. London, London, GBR)

Univ. Coll. London, London, GBR について

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BOYD I W

BOYD I W について

(Univ. Coll. London, London, GBR)

Univ. Coll. London, London, GBR について


資料名：
Applied Surface Science  (Applied Surface Science)

Applied Surface Science について


巻： 186  号： 1/4  ページ： 241-245  発行年： 2002年01月28日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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KrCl*中の誘電体障壁放電を用いたU...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*光CVD

光CVD について

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準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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シリカ

シリカ について

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分類 (1件)：
分類
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酸化物薄膜 
(BK14050P)

酸化物薄膜 について

物質索引 (1件)：
物質索引
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テトライソプロポキシチタン(IV)

テトライソプロポキシチタン(IV) について

タイトルに関連する用語 (5件)：
タイトルに関連する用語
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光誘起

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化学蒸着

化学蒸着 について

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堆積

堆積 について

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TiO2

TiO2 について

, 
評価

評価 について


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