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J-GLOBAL ID：200902120301194819   整理番号：95A1008927

フッ素添加P-CVD SiO2膜の吸湿メカニズムの考察 (I)

Mechanism of water adsorption and hydrolysis of F-doped P-CVD SiO2. (I).
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著者 (1件)：
中崎靖

中崎靖 について

(東芝)

東芝 について


資料名：
応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)

応用物理学会学術講演会講演予稿集 について


巻： 56th  号： 2  ページ： 589  発行年： 1995年08月 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
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タイトルに関連する用語
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フッ素添加

フッ素添加 について

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CVD

CVD について

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SiO2

SiO2 について

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吸湿

吸湿 について

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メカニズム

メカニズム について


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