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J-GLOBAL ID：200902120717612938   整理番号：02A0476121

種々の雰囲気下で熱処理したPt/Ti/SiO₂/Al₂O₃多層膜の組織と抵抗温度係数

Structures of Pt/Ti/SiO₂/Al₂O₃ Multilayer Film Annealed in Various Ambients and their Temperature Coefficient of Resistance.

著者 (6件)： 半沢規子 (東京理大 基礎工) ,  友成健二 (三井金属 総研) ,  井上真一 (三井金属 総研) ,  山岸喜代志 (三井金属 総研) ,  青木善平 (三井金属 総研) ,  後藤芳彦 (東京理大 基礎工)
資料名： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 53  号： 5  ページ： 346-353  発行年： 2002年05月01日 
JST資料番号： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 高純度アルミナ多結晶基板/酸化けい素膜/チタン薄膜(接着層)...

シソーラス用語： *電気抵抗率 ,...

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分類 (2件)： 電気的性質  (WB02010Y) ,  固体デバイス材料  (NC03020K)

引用文献 (19件)：

• OGATA, K. National Technical Report. 1980, 26, 424
• 米野忠男. センサ技術. 1988, 8, 48
• ZHANG, J. Jpn. J. Appl. Phys. 1997, 36, 834
• LOURENCO, M. J. Int. J. Thermophys. 1998, 19, 1253
• SREENIVAS, K. J. Appl. Phys. 1994, 75, 1, 232

タイトルに関連する用語 (9件)： 雰囲気 ,  熱処理 ,  Pt ,  Ti ,  SiO2 ,  Al2O3 ,  多層膜 ,  組織 ,  抵抗温度係数