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J-GLOBAL ID：200902121557461748   整理番号：00A0874799

フォトレジスト鋳型の充填によるセラミックの微細加工

Microfabrication of Ceramics by Filling of Photoresist Molds.

著者 (3件)： SCHOENHOLZER U P (ETH Zuerich, Zuerich, CHE) ,  HUMMEL R (ETH Zuerich, Zuerich, CHE) ,  GAUCKLER L J (ETH Zuerich, Zuerich, CHE)
資料名： Advanced Materials  (Advanced Materials)
巻： 12  号： 17  ページ： 1261-1263  発行年： 2000年09月01日 
JST資料番号： W0001A  ISSN： 0935-9648  CODEN： ADVMEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 平らな基板上にフォトレジストの微細パターンを形成し,次にこの...

シソーラス用語： *セラミック鋳型法 ,...

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分類 (2件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： フォトレジスト ,  鋳型 ,  セラミック ,  微細加工