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J-GLOBAL ID：200902122094189560   整理番号：01A0258170

光応答性高分子表面の合成とその特性評価

著者 (4件)： 吉川智子 (早稲田大 理工) ,  酒井清孝 (早稲田大 理工) ,  松方美樹 (東京女医大 医用工研施設) ,  岡野光夫 (東京女医大 医用工研施設)
資料名： 高分子学会予稿集  (Polymer Preprints, Japan)
巻： 49  号： 10  ページ： 3165-3166  発行年： 2000年09月08日 
JST資料番号： Z0703B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *光応答性高分子 ,...

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分類 (1件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

物質索引 (5件)： アゾベンゼン ,  アクリル酸 ,  アクリル酸クロリド ,  アゾベンゼン-4-アミン ,  N-[4-(フェニルアゾ)フェニル]アクリルアミド

タイトルに関連する用語 (2件)： 光応答性高分子 ,  特性評価