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J-GLOBAL ID：200902122619191510   整理番号：99A0395285

散乱と重なりを考慮した蛍光X線強度の理論計算,及び定量分析への応用

Consideration of the X-Ray Scattering and Fluorescent Overlapping in the Theoretical Intensity Calculations of the X-Ray Fluorescence, and Its Applications to Quantitative Analysis.

著者 (3件)： 越智寛友 (島津製作所) ,  中村秀樹 (島津製作所) ,  西埜誠 (島津製作所)
資料名： X線分析の進歩  (X線工業分析)
巻： 30  ページ： 55-71  発行年： 1999年03月31日 
JST資料番号： Z0547B  ISSN： 0911-7806  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 蛍光X線分析において,測定されるX線は,測定対象元素の蛍光X...

シソーラス用語： *蛍光X線分析 ,...

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分類 (1件)： 金属,合金の物理分析  (CC03040V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 散乱 ,  重なり ,  蛍光X線 ,  理論計算 ,  定量分析 ,  応用