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J-GLOBAL ID：200902123157647764   整理番号：02A0828490

Atomic Layer Deposition of Hafnium Dioxide Films from Hafnium Tetrakis(ethylmethylamide) and Water.

著者 (5件)： KUKLI K (Univ. Helsinki, FIN) ,  RITALA M (Univ. Helsinki, FIN) ,  SAJAVAARA T (Univ. Helsinki, FIN) ,  KEINONEN J (Univ. Helsinki, FIN) ,  LESKELAE M (Univ. Helsinki, FIN)
資料名： Chemical Vapor Deposition  (Chemical Vapor Deposition)
巻： 8  号： 5  ページ： 199-204  発行年： 2002年09月 
JST資料番号： W0908A  ISSN： 0948-1907  CODEN： CVDEFX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)