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J-GLOBAL ID：200902123688872010   整理番号：94A0108985

電極・配線形成技術 スパッタリング装置 ILC-1060PVD 日電アネルバ

Electrode and wire forming technology.Sputtering equipment.ILC-1060PVD.NEC Anelva.
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資料名：
月刊Semiconductor World  (月刊セミコンダクターワールド)

月刊Semiconductor World について


巻： 12  号： 16  ページ： 274-275  発行年： 1993年11月 
JST資料番号： Y0509A  ISSN： 0286-5025  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 紹介的記事  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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ILC-1060PVDは,次世代半導体デバイス生産用として,...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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スパッタリング装置

スパッタリング装置 について

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シソーラス用語/準シソーラス用語
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陰極

陰極 について

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分類 (1件)：
分類
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固体デバイス製造技術一般 
(NC03030V)

固体デバイス製造技術一般 について

タイトルに関連する用語 (2件)：
タイトルに関連する用語
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スパッタリング装置

スパッタリング装置 について

, 
ILC

ILC について


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