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J-GLOBAL ID:200902123731447248   整理番号:93A0668440

表面拡散と粒界拡散に基づく電子パッケージ内アルミ配線のストレス・マイグレーション破壊の数値シミュレーション

Numerical Simulation of Stress-Induced Failure in Aluminum Conductors of a Microelectronic Package Based on Surface and Grain Boundary Diffusion.
著者 (3件):
資料名:
巻: 59  号: 563  ページ: 1625-1630  発行年: 1993年07月 
JST資料番号: F0227B  ISSN: 0387-5008  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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標記の破損について,表面拡散と粒界拡散に基づいた破壊機構を提...
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