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J-GLOBAL ID：200902124511984176   整理番号：93A0253305

MOCVD法による光IC薄膜作製用原料としての高純度Nb(dpm)₂Cl₃の合成

Synthesis of High Purity Nb(dpm)₂Cl₃ for Preparation of Photo IC Thin Films by MOCVD.

著者 (1件)： 小林一三 (日本酸素 つくば研)
資料名： 日本化学会誌  (化学と工業化学)
号： 2  ページ： 213-215  発行年： 1993年02月 
JST資料番号： F0226B  ISSN： 0369-4577  CODEN： NKAKB8  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 高純度のAr雰囲気下,非水溶媒を用いてNbCl<sub>5<...

シソーラス用語： MOCVD ,...

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分類 (2件)： 第4族,第5族元素の錯体  (CE01070U) ,  光集積回路,集積光学  (BD06050D)

引用文献 (25件)：

• フジ・テクノシステム. レアメタル事典. 1991, 302
• 塩嵜忠. 強誘電体薄膜集積化技術. 1992, 40
• 岡田勝. 応用物理学会第53回秋季年会講演予稿集. 1992, 363
• 岡田勝. 応用物理学会第52回秋季年会講演予稿集. 1991, 388
• 堤潤. 応用物理学会第53回秋季年会講演予稿集. 1992, 941

タイトルに関連する用語 (7件)： MOCVD ,  光IC ,  薄膜作製 ,  原料 ,  高純度 ,  Nb ,  dpm