文献
J-GLOBAL ID：200902124625288927   整理番号：96A0955332

プラズマプロセスによるSiの表面窒化

Surface Nitrization of Si by Plasma Processing.
  • 出版者サイト 複写サービスで全文入手
  • 高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=96A0955332&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=F0661A") }}
著者 (5件)：
原田誠

原田誠 について

(北大 工)

北大 工 について

, 
広畑優子

広畑優子 について

(北大 工)

北大 工 について

, 
藤田一郎

藤田一郎 について

(北大 工)

北大 工 について

, 
日野友明

日野友明 について

(北大 工)

北大 工 について

, 
山科俊郎

山科俊郎 について

(北大 工)

北大 工 について


資料名：
北海道大学工学部研究報告  (Bulletin of the Faculty of Engineering Hokkaido University)

北海道大学工学部研究報告 について


号： 178  ページ： 25-33  発行年： 1996年10月 
JST資料番号： F0661A  ISSN： 0385-602X  CODEN： HDKKA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
低温プラズマを用いた材料の表面改質法であるECR窒素プラズマ...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ（有料）でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
ケイ素

ケイ素 について

,...
準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ（有料）でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
圧力依存性

圧力依存性 について

,...
   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=96A0955332&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=F0661A") }}
分類 (1件)：
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体の表面構造 
(BK15030A)

半導体の表面構造 について

タイトルに関連する用語 (3件)：
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです
プラズマプロセス

プラズマプロセス について

, 
Si

Si について

, 
窒化

窒化 について


前のページに戻る

TOP

BOTTOM