文献
J-GLOBAL ID:200902125528739430 整理番号:93A0600180
イオン注入技術入門 第2回
Introduciton to ion implantation technology.2.
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著者 (1件):
横田勝弘
横田勝弘 について
名寄せID(JGPN) 200901100489149446 ですべてを検索
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(
関西大 工
)
関西大 工 について
名寄せID(JGON) 201551000096776973 ですべてを検索
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資料名:
放射線と産業 (Radiation & Industries)
放射線と産業 について
JST資料番号 G0314A ですべてを検索
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号:
58
ページ:
40-44
発行年:
1993年06月
JST資料番号:
G0314A
ISSN:
0286-8873
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
解説
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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注入されたイオンの電子阻止能および核阻止能,注入されたイオン...
シソーラス用語:
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分類 (1件):
分類
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半導体の放射線による構造と物性の変化
(BK16123E)
半導体の放射線による構造と物性の変化 について
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