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J-GLOBAL ID:200902126123799661 整理番号:96A0145507
新しいエキシマ光源とその将来
Newly Developed Light Sources by Excimers and Thier Potential Applications.
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著者 (1件):
佐々木亘
佐々木亘 について
名寄せID(JGPN) 200901100330331219 ですべてを検索
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(
宮崎大 工
)
宮崎大 工 について
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資料名:
レーザー研究 (レーザー学会誌)
レーザー研究 について
JST資料番号 X0335A ですべてを検索
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巻:
23
号:
12
ページ:
1056-1067
発行年:
1995年12月
JST資料番号:
X0335A
ISSN:
0387-0200
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
解説
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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VUV領域の新しいエキシマ光源を希ガスエキシマとイオン状態ハ...
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
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希ガス
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引用文献 (43件):
BASOV, N. G. JETP Lett. 1970, 12, 329
HOFF, P. W. Appl. Phys. Lett. 1973, 23, 245
HUGDES, W. M. Appl. Phys. Lett. 1974, 24, 488
LORENTS, D. C. Physica. 1976, 82C, 19
WROBL, W. G. Rep. IPP, Max Planck Institut fur Plasmaphysik, European Assicuatuibm D-8046 Garching. 1981, 1/186
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