超臨界乾燥による高度に多孔質のシリカエーロゲル薄膜の作製

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J-GLOBAL ID：200902126161816766 整理番号：00A0382764

Preparation of Highly Porous Silica Aerogel Thin Film by Supercritical Drying.

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資料名：
巻： 39 号： 3A/B ページ： L182-L184 発行年： 2000年03月15日
JST資料番号： F0599B ISSN： 0021-4922 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

超LSIのための超低誘電率材料としての多孔質シリカエーロゲル...

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酸化物薄膜

引用文献 (8件)：

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