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J-GLOBAL ID：200902126550202110   整理番号：93A0330412

Tl₂Ba₂Ca₂Cu₃O_10+x超伝導膜の成長に対するスパッタリングおよび焼結パラメータの最適化

A study of the optimization of sputtering and sintering parameters for the growth of Tl₂Ba₂Ca₂Cu₃O_10+x superconducting films.

著者 (7件)： CHRZANOWSKI J (Simon Fraser Univ., B.C., CAN) ,  BURANY X M (Simon Fraser Univ., B.C., CAN) ,  CURZON A E (Simon Fraser Univ., B.C., CAN) ,  IRWIN J C (Simon Fraser Univ., B.C., CAN) ,  HEINRICH B (Simon Fraser Univ., B.C., CAN) ,  FORTIER N (CTF Systems Inc., B.C., CAN) ,  CRAGG A (CTF Systems Inc., B.C., CAN)
資料名： Physica C. Superconductivity and Its Applications  (Physica C. Superconductivity and Its Applications)
巻： 207  号： 1/2  ページ： 25-36  発行年： 1993年03月01日 
JST資料番号： T0580A  ISSN： 0921-4534  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 単一ターゲットの高周波マグネトロンスパッタリング源および異な...

シソーラス用語： タリウム化合物 ,...

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分類 (2件)： 酸化物系超伝導体の物性  (BM04023I) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： 超伝導膜 ,  成長 ,  スパッタリング ,  焼結 ,  パラメータ ,  最適化