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J-GLOBAL ID：200902126906505873   整理番号：97A0371623

低酸素分圧下で酸化したTiAlの角度分解XPSによる表面分析

Angle-Resolved XPS Study of Thin Layers Formed on the Surface of TiAl by Oxidizing under Low Oxygen Pressure.

著者 (5件)： 井上博文 (東北大 素材工研) ,  鈴木茂 (東北大 素材工研) ,  小坂知巳 (東北大 大学院) ,  佐藤史生 (東北大 素材工研) ,  早稲田嘉夫 (東北大 素材工研)
資料名： 東北大学素材工学研究所い報  (Bulletin of the Institute for Advanced Materials Processing, Tohoku University)
巻： 52  号： 1/2  ページ： 45-54  発行年： 1996年12月 
JST資料番号： F0434A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 低酸素分圧下,1,273KでTiAlを100minの間,熱処...

シソーラス用語： 金属間化合物 ,...
準シソーラス用語： XPS法

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分類 (1件)： 腐食  (WB03030B)

タイトルに関連する用語 (6件)： 酸素分圧 ,  酸化 ,  TiAl ,  分解 ,  XPS ,  表面分析