エキシマレーザアニールpoly-Si薄膜の残留応力

文献

J-GLOBAL ID：200902127034710858 整理番号：94A0476457

Residual stress in excimer laser annealed poly-Si thin films.

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資料名：
巻： 41st 号： Pt 2 ページ： 749 発行年： 1994年03月
JST資料番号： Y0054A 資料種別：会議録 (C)
発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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