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J-GLOBAL ID：200902128325003012   整理番号：95A0658365

ジメチルエチルアミン・アランとアンモニアを用いる常圧有機金属化学蒸着による低温でのAlN蒸着

Deposition of AIN at lower temperatures by atmospheric metalorganic chemical vapor deposition using dimethylethylamine alane and ammonia.

著者 (8件)： KIDDER J N JR (Univ. Washington, Washington) ,  KUO J S (Univ. Washington, Washington) ,  LUDVIKSSON A (Univ. Washington, Washington) ,  PEARSALL T P (Univ. Washington, Washington) ,  ROGERS J W JR (Univ. Washington, Washington) ,  GRANT J M (Sharp Microelectronics Technol. Inc., Washington) ,  ALLEN L R (Sharp Microelectronics Technol. Inc., Washington) ,  HSU S T (Sharp Microelectronics Technol. Inc., Washington)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 13  号： 3 Pt 1  ページ： 711-715  発行年： 1995年05月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アミン-アラン付加化合物を出発物質とする300~800Kでの...

シソーラス用語： 窒化アルミニウム ,...

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分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (8件)： ジメチルエチルアミン ,  アラン ,  アンモニア ,  常圧 ,  有機金属化学蒸着 ,  低温 ,  AlN ,  蒸着