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J-GLOBAL ID：200902129191518203   整理番号：98A0090224

フラン含有重合体/フラーレン系のフォトリソグラフィーへの応用

Application of a Furan-Containing Polymer/Fullerene System to Photolithography.

著者 (4件)： TAJIMA Y (Sci. Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  TEZUKA Y (Sci. Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  ISHII T (Sci. Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  TAKEUCHI K (Inst. Physical and Chemical Res. (RIKEN), Saitama, JPN)
資料名： Polymer Journal  (Polymer Journal)
巻： 29  号： 12  ページ： 1016-1019  発行年： 1997年12月 
JST資料番号： F0612A  ISSN： 0032-3896  CODEN： POLJB8  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ラジカル重合により調製したポリ(メタクリル酸2-ヒドロキシエ...

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,...
準シソーラス用語： *光橋架け ,...

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分類 (2件)： その他の高分子の反応  (CG03040H) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (14件)：

• 1. E. T. Samulski, J. M. DeSimone, M. O. Hunt, Y. Z. Menceloglu, R. C. Jarnagin, G. A. York, K.B. Labat, and H. Wang, Chem. Mater., 4, 1153 (1992).
• 2. K. E. Geckeler and A. Hirsch, J. Am. Chem. Soc., 115, 3850 (1993).
• 3. N. Manalova, I. Rashkov, F. Beguin, and H. V. Damme, J. Chem. Soc., Chem. Commun., 1725 (1993).
• 4. A. O. Patil, G. W. Schriver, B. Carstensen, and R. D. Lundberg, Polym. Bull., 30, 187 (1993).
• 5. C. J. Hawker, Macromolecules, 27, 4836 (1994).

タイトルに関連する用語 (5件)： フラン ,  重合体 ,  フラーレン ,  フォトリソグラフィー ,  応用