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J-GLOBAL ID：200902129302173294   整理番号：94A0180006

シリコン熱酸化膜中の構造欠陥によるフォトルミネッセンス (II)

Photoluminescence from point defects in thermally grown SiO₂ film. (II).

著者 (6件)： 家城昭人 (早稲田大) ,  出口隆弘 (早稲田大) ,  松永知道 (早稲田大) ,  大木義路 (早稲田大) ,  西川宏之 (東京都大) ,  滝山真功 (新日本製鉄)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 54th  号： 2  ページ： 777  発行年： 1993年09月 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (4件)： シリコン ,  熱酸化膜 ,  構造欠陥 ,  フォトルミネッセンス