Radical beam etching: application to patterning of YBa2Cu3O6+x high Tc superconducting thin films.

文献

J-GLOBAL ID：200902129716046529 整理番号：94A0233023

Radical beam etching: application to patterning of YBa₂Cu₃O_6+x high T_c superconducting thin films.

出版者サイト複写サービスで全文入手
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=94A0233023&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=K19940194") }}

著者 (3件)： , ,
資料名：
ページ： 275-285 発行年： 1993年
JST資料番号： K19940194 ISBN： 1-56677-066-1 資料種別：会議録 (C)
発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

前のページに戻る