文献

J-GLOBAL ID：200902129951522494   整理番号：93A0990565

電気クロマトグラフィー及び電気浸透流によるシリカゲル残存シラノール基の解離定数の算出 (14)

著者 (3件)： 北川慎也 (名古屋工大 工) ,  早川幸伸 (名古屋工大 工) ,  津田孝雄 (名古屋工大 工)
資料名： 日本分析化学会年会講演要旨集  (分析化学講演要旨集)
巻： 42nd  ページ： 4  発行年： 1993年09月 
JST資料番号： G0563B  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (6件)： クロマトグラフィー ,  電気浸透流 ,  シリカゲル ,  残存 ,  シラノール基 ,  解離定数