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J-GLOBAL ID：200902130642680261   整理番号：93A0264954

非反応性および反応性(半導体)表面での光化学

Photochemistry on Nonreactive and Reactive (Semiconductor) Surfaces.
著者 (1件)：
KAMAT P V

KAMAT P V について

(Univ. Notre Dame, Indiana)

Univ. Notre Dame, Indiana について


資料名：
Chemical Reviews  (Chemical Reviews)

Chemical Reviews について


巻： 93  号： 1  ページ： 267-300  発行年： 1993年01月 
JST資料番号： B0256A  ISSN： 0009-2665  CODEN： CHREAY  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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表面の光化学過程の機構および速度論について総説した。分子の吸...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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表面

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シリカ

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分類 (2件)：
分類
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光化学一般 
(CB08010U)

光化学一般 について

,  物理的手法を用いた吸着の研究 
(CB12043P)

物理的手法を用いた吸着の研究 について

タイトルに関連する用語 (3件)：
タイトルに関連する用語
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非反応性

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反応性

反応性 について

, 
光化学

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