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J-GLOBAL ID:200902131083388349   整理番号:93A0185595

シリコン-アセトニトリル界面における電気化学的過程のin situ Fourier変換赤外分光法

In-situ Fourier transform infrared spectroscopy of electrochemical processes at the silicon-acetonitrile interface.
著者 (4件):
資料名:
巻: 344  号: 1/2  ページ: 187-198  発行年: 1993年01月15日 
JST資料番号: D0037A  ISSN: 1572-6657  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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ゲルマニウム内部反射結晶上にシリコンウェハを接着し,内部多重...
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分類 (2件):
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試料技術  ,  半導体の表面構造 
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