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J-GLOBAL ID：200902131110781660   整理番号：02A0484632

改良SC-1のみの洗浄のための界面活性剤選択

Surfactant Selection for a Modified SC-1 Only Clean.
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著者 (3件)：
BAKER J

BAKER J について

(Applied Materials, CA, USA)

Applied Materials, CA, USA について

, 
BEAUDRY C

BEAUDRY C について

(Applied Materials, CA, USA)

Applied Materials, CA, USA について

, 
VERHAVERBEKE S

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(Applied Materials, CA, USA)

Applied Materials, CA, USA について


資料名：
Proceedings. Semiconductor Pure Water and Chemicals Conference  (Proceedings. Semiconductor Pure Water and Chemicals Conference)

Proceedings. Semiconductor Pure Water and Chemicals Conference について


巻： 21st  ページ： 138-146  発行年： 2002年 
JST資料番号： W0077A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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シリカ,窒化ケイ素,シリコンなどの表面洗浄剤としてSC-1洗...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*ケイ素

ケイ素 について

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準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*シリカ

シリカ について


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分類 (2件)：
分類
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生産に関する問題一般 
(YA01081G)

生産に関する問題一般 について

,  固体デバイス製造技術一般 
(NC03030V)

固体デバイス製造技術一般 について

タイトルに関連する用語 (3件)：
タイトルに関連する用語
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Sc

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, 
洗浄

洗浄 について

, 
界面活性剤

界面活性剤 について


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