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J-GLOBAL ID:200902131908249665 整理番号:94A0109003
絶縁膜形成技術 CVD装置 CN4000/CN5000 住友金属工業
Insulating film forming technology.CVD equipment.CN4000/CN5000.Sumitomo Metal Industries.
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資料名:
月刊Semiconductor World (月刊セミコンダクターワールド)
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巻:
12
号:
16
ページ:
318-319
発行年:
1993年11月
JST資料番号:
Y0509A
ISSN:
0286-5025
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
紹介的記事
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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CN4000は,ECRプラズマCVD独特の指向性の高い成膜特...
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シソーラス用語/準シソーラス用語
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