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J-GLOBAL ID：200902132383798766   整理番号：02A0865368

SiOCHエッチングに及ぼす膜組成の効果

Effect of Film Composition on SiOCH Etching.

著者 (8件)： TATSUMI T (Sony Corp., Kanagawa, JPN) ,  NAGAHATA K (Sony Corp., Kanagawa, JPN) ,  URATA K (Sony Computer Entertainment Inc., Nagasaki, JPN) ,  SAITO T (Sony Corp., Kanagawa, JPN) ,  MINAMI M (Sony Corp., Kanagawa, JPN) ,  NOGAMI Y (Sony Computer Entertainment Inc., Nagasaki, JPN) ,  ISEDA S (Sony Computer Entertainment Inc., Nagasaki, JPN) ,  MORITA Y (Sony Corp., Kanagawa, JPN)
資料名： Proceedings of International Symposium on Dry Process  (Proceedings of International Symposium on Dry Process)
巻： 2nd  ページ： 9-14  発行年： 2002年10月10日 
JST資料番号： Y0378B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： ケイ素 ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (2件)： エッチング ,  膜組成