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J-GLOBAL ID：200902132385990621   整理番号：00A0912459

シリコンのミクロ構造変態 水素アニーリングによるシリコン原子の表面マイグレーションを利用したシリコン表面パターン形成のための新たに開発した変態技術

Micro-structure Transformation of Silicon. A Newly Developed Transformation Technology for Patterning Silicon Surfaces using the Surface Migration of Silicon Atoms by Hydrogen Annealing.

著者 (4件)： SATO T (Toshiba Corp., Yokohama, JPN) ,  MITSUTAKE K (Toshiba Corp., Yokohama, JPN) ,  MIZUSHIMA I (Toshiba Corp., Yokohama, JPN) ,  TSUNASHIMA Y (Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 39  号： 9A  ページ： 5033-5038  発行年： 2000年09月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アニールの圧力および時間と温度のようなパラメータを変えてミク...

シソーラス用語： *ケイ素 ,...

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分類 (2件)： 試料技術  (BA02070O) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (13件)：

• 1) Y. Homma, N. Aizawa and T. Ogino: Jpn. J. Appl. Phys. 35 (1996) L241.
• 2) T. Ogino, H. Hibino and Y. Homma: Appl. Surf. Sci. 117/118 (1997) 642.
• 3) S. Tanaka, C. C. Umbach, J. M. Blakely, R. M. Tromp and M. Mankos: Appl. Phys. Lett. 69 (1996) 1235.
• 4) M. E. Keeffe, C. C. Umbach and J. M. Blakely: J. Phys. Chem. Solids 55 (1994) 965.
• 5) Y. Yanase, H. Nishihata, T. Ochiai and H. Tsuya: Jpn. J. Appl. Phys. 37 (1998) 1.

タイトルに関連する用語 (9件)： シリコン ,  構造変態 ,  水素 ,  アニーリング ,  シリコン原子 ,  マイグレーション ,  パターン形成 ,  開発 ,  変態