文献
J-GLOBAL ID:200902132403063687   整理番号:95A0232860

放射光励起プロセス特集 現状と今後の課題

Synchrotron Radiation Excited Processes. Present Status and Future Prospects.
著者 (3件):
資料名:
巻:号:ページ: 2-15  発行年: 1995年02月 
JST資料番号: L0956A  ISSN: 0914-9287  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 文献レビュー  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
最近シンクロトロン放射光による化学反応を半導体プロセスに用い...
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
,...
   続きはJDreamIII(有料)にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=95A0232860&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=L0956A") }}
分類 (4件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
電磁場中の粒子の運動及び放射  ,  薄膜成長技術・装置  ,  固体デバイス製造技術一般  ,  光化学反応 
引用文献 (67件):
もっと見る
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る