文献

J-GLOBAL ID：200902133381539867   整理番号：02A0961699

超分子テンプレート法により製造したメソ細孔性シリカ中の光過程

Photoprocesses in mesoporous silicas prepared by a supramolecular templating approach.

著者 (1件)： OGAWA M (Waseda Univ., Tokyo, JPN)
資料名： Journal of Photochemistry and Photobiology. C. Photochemistry Reviews  (Journal of Photochemistry and Photobiology. C. Photochemistry Reviews)
巻： 3  号： 2  ページ： 129-146  発行年： 2002年10月25日 
JST資料番号： W1244A  ISSN： 1389-5567  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 無機-界面活性剤複合化により得られたメソ細孔性固体は高い比表...

シソーラス用語： 多孔質体 ,...
準シソーラス用語： *シリカ

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分類 (3件)： 光化学反応  (CB08020F) ,  固-気界面一般  (CB12041H) ,  錯体のルミネセンス  (BM08095R)

物質索引 (23件)： ピレン ,  1,2-ビス(トリエトキシシリル)エタン ,  メタン ,  2,4,6-トリフェニルピリリウム ,  メタノール ,  1,10-フェナントロリン ,  4,4′-ビピリジン ,  1,3,3-トリメチル-2-(2-オキシラト-5-ニトロスチリル)-3H-インドール-1-イウム ,  1′,3′,3′-トリメチル-6-ニトロスピロ[2H-1-ベンゾピラン-2,2′-インドリン] ,  1,3,3-トリメチル-2-(2-オキソ-1,2-ジヒドロナフタレン-1-イリデンアミノメチレン)インドリン ,  1′,3′,3′-トリメチル-5,6-[1,3]ブタジエノスピロ[2H-1,4-ベンゾオキサジン-2,2′-インドリン] ,  2¹,2²,7¹,7²,12¹,12²,17¹,17²-オクタキス(1,12,15,18,21-ペンタオキサドコサン-1-イル)フタロシアニン ,  10,12-ペンタコサジイン酸 ,  10,12-ペンタコサジイン酸8-ヒドロキシ-3,6-ジオキサオクタン-1-イル ,  ビニレンビス(トリエトキシシラン) ,  2,5-チオフェンジイルビス(トリエトキシシラン) ,  1,4-フェニレンビス(トリエトキシシラン) ,  1-(2,6-ジフェニル-4-オキシラトフェニル)-2,4,6-トリフェニルピリジニウム ,  4,4′-ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン ,  10-エチル-10H-フェノチアジン ,  2-ヒドロキシエチル[2-(アゾベンゼン-4-イルオキシ)エチル]ジメチルアミニウム・ブロミド ,  1,1′-ビス[3-(トリメトキシシリル)プロピル]-4,4′-ビピリジニウム ,  3-ヨードプロピルトリメトキシシラン

引用文献 (167件)：

• RAMAMURTHY, V. Photochemistry in Organized & Constrained Media. 1991
• ANPO, M. Photochemistry on solid surfaces, Studies in Surface Science and Catalysis. 1989, 47
• KLAFTER, J. Molecular Dynamics in Restricted Geometries. 1989
• RAMAMURTHY, V. Solid State and Surface Photochemistry. 2000
• FENDLER, J. H. Membrane-Mimetic Approach to Advanced Materials. 1994

タイトルに関連する用語 (4件)： 超分子 ,  テンプレート ,  メソ細孔性シリカ ,  過程