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J-GLOBAL ID：200902134013720086   整理番号：94A0555714

低圧力・高密度プラズマの新しい展開 ECR,ヘリコン波および誘導結合型プラズマ

Recent progress in low-pressure high-density plasmas. ECR, helicon-wave-excited and inductively coupled plasmas.

著者 (1件)： 管井秀郎 (名古屋大 工)
資料名： 応用物理  (JSAP International)
巻： 63  号： 6  ページ： 559-567  発行年： 1994年06月 
JST資料番号： F0252A  ISSN： 0369-8009  CODEN： OYBSA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： プラズマを用いるドライプロセスは,薄膜デバイスの作製に欠かせ...

シソーラス用語： ECRプラズマ ,...
準シソーラス用語： プラズマプロセシング

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分類 (3件)： プラズマ生成・加熱  (BJ02060E) ,  プラズマ応用  (BJ02110K) ,  プラズマ装置  (BJ02082I)

引用文献 (52件)：

• 1) H. Sugai. M. Sato, K. Ido and S. Takeda: J. Phys. Soc. Jpn. 44, 1953 (1978).
• 2) H. Sugai: Phys. Review A 24, 1571 (1981).
• 3) N. Fujiwara, M. Yoneda, K. Nakamoto and K. Tsukamoto: Proc. Symp. Highly Selective Dry Etching and Damage Control, Honolulu, 1993, p. 65.
• 4) S. Samukawa, S. Mori and M. Sasaki: J. Vac. Sci. & Technol, A9, 85 (1991).
• 5) H. Shindo, T. Hashimoto, F. Amasaki and Y. Horiike: Jpn. J. Appl. Phys. 29, 2641 (1990)

タイトルに関連する用語 (5件)： 低圧力 ,  高密度プラズマ ,  展開 ,  ヘリコン波 ,  誘導結合型プラズマ