Ar/O2混合物雰囲気中でのスパッタリングにより堆積したRu電極

文献

J-GLOBAL ID：200902134710956730 整理番号：98A0987450

Ar/O₂混合物雰囲気中でのスパッタリングにより堆積したRu電極

Ru Electrode Deposited by Sputtering in Ar/O₂ Mixture Ambient.

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巻： 37 号： 10 ページ： 5701-5707 発行年： 1998年10月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

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金属薄膜 , 電気材料一般

引用文献 (13件)：

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5) S. Yamamichi, P.-Y. Lesaicherre, H. Yamaguchi, K. Takemura, S. Sone, H. Yabuta, K. Sato, T. Tamura, K. Nakajima, S. Ohnishi, K. Tokashiki, Y. Hayashi, Y. Kato, Y. Miyasaka, M. Yoshida and H. Ono: `95 IEEE IEDM Tech. Dig. (IEEE, Piscataway, 1995) p. 119.

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