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J-GLOBAL ID：200902135179013716   整理番号：93A0605208

ダイヤモンド薄膜の核形成と成長に対する基板の予備表面処理の影響

Effects of substrate pretreatment on nucleation and growth of diamond films.

著者 (2件)： ZHANG G (Northwestern Polytechnical Univ.) ,  ZHENG X (Northwestern Polytechnical Univ.)
資料名： Cailiao Kexue Jinzhan  (Cailiao Kexue Jinzhan)
巻： 7  号： 2  ページ： 132-137  発行年： 1993年04月25日 
JST資料番号： W0448A  ISSN： 1000-8500  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： ダイヤモンド薄膜を,Si(001)基板上にTC4 Ti合金を用いて,大気中で燃焼炎法で合成した。合成した膜は走査電子顕微鏡とレーザラマン分光器で分析した。薄膜の構造と形態は,基板温度,O₂/C₂H₂ガスの流量比,基板の性質及び堆積位置に強く依存した。表面処理の効果は,化学的にエッチングした基板上では,核形成とダイヤモンドの成長は非常に一様であった

シソーラス用語： ダイヤモンド ,  薄膜成長 ,  ケイ素 ,  基板 ,  前処理 ,  表面処理 ,  燃焼合成 ,  結晶構造 ,  結晶形態 ,  温度依存性 ,  酸素 ,  混合気体 ,  流量 ,  エッチング ,  核形成 ,  アルキン ,  糖エーテル
準シソーラス用語： ダイヤモンド薄膜 ,  アセチレン

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (4件)： ダイヤモンド薄膜 ,  核形成 ,  成長 ,  表面処理