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J-GLOBAL ID：200902135491655865   整理番号：01A0738946

シリコンウエハ上のInP 2Dフォトニック結晶マイクロレーザ 1.55μmにおける室温動作

InP 2D photonic crystal microlasers on silicon wafer: Room temperature operation at 1.55μm.

著者 (9件)： MONAT C (Ecole Centrale de Lyon, Ecully, FRA) ,  SEASSAL C (Ecole Centrale de Lyon, Ecully, FRA) ,  LETARTRE X (Ecole Centrale de Lyon, Ecully, FRA) ,  VIKTOROVITCH P (Ecole Centrale de Lyon, Ecully, FRA) ,  REGRENY P (Ecole Centrale de Lyon, Ecully, FRA) ,  GENDRY M (Ecole Centrale de Lyon, Ecully, FRA) ,  ROJO-ROMEO P (Ecole Centrale de Lyon, Ecully, FRA) ,  HOLLINGER G (Ecole Centrale de Lyon, Ecully, FRA) ,  ASPAR B (CEA, Grenoble, FRA)
資料名： Electronics Letters  (Electronics Letters)
巻： 37  号： 12  ページ： 764-766  発行年： 2001年06月07日 
JST資料番号： A0887A  ISSN： 0013-5194  CODEN： ELLEAK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 親水性ウエハボンディングと標準的ナノ作製プロセスを組合せて作...

シソーラス用語： ケイ素 ,...

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分類 (1件)： 固体レーザ  (BD04080W)

タイトルに関連する用語 (6件)： シリコンウエハ ,  InP ,  2D ,  フォトニック結晶 ,  マイクロレーザ ,  室温