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J-GLOBAL ID：200902135653756415   整理番号：99A0972909

半導体プロセスを支えるクリーン化技術 超純水技術 製造・分析技術と機能水

Clean Technology Supporting Semiconductor Manufacturing Process. Ultrapure Water. Production, Analysis and Functional Water.

著者 (1件)： 森田博志 (栗田工業)
資料名： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 50  号： 10  ページ： 873-878  発行年： 1999年10月01日 
JST資料番号： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 超純水は,半導体製造工程のウェットプロセスで洗浄・リンス用水...

シソーラス用語： *超純水 ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス一般  (NC03010Z)

引用文献 (11件)：

• FULDE, T. Ultrapure Water. 1999, 47
• 横井生憲. 半導体テクノロジー大全, 第6章, 電子ジャーナル. 1997, 457
• MORITA, M. J. Applied Physics. 1990, 68, 1272
• 小泉求. ウルトラクリーンテクノロジー. 1993, 5, 1, 62
• OINUMA, M. Water Proc. of Semiconductor Pure Water and Chemicals Conference. 1993, 180

タイトルに関連する用語 (5件)： 半導体プロセス ,  クリーン化技術 ,  純水 ,  分析 ,  機能水