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J-GLOBAL ID:200902135653756415   整理番号:99A0972909

半導体プロセスを支えるクリーン化技術 超純水技術 製造・分析技術と機能水

Clean Technology Supporting Semiconductor Manufacturing Process. Ultrapure Water. Production, Analysis and Functional Water.
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資料名:
巻: 50  号: 10  ページ: 873-878  発行年: 1999年10月01日 
JST資料番号: G0441B  ISSN: 0915-1869  CODEN: HYGIEX  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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超純水は,半導体製造工程のウェットプロセスで洗浄・リンス用水...
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分類 (1件):
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固体デバイス一般 
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