文献
J-GLOBAL ID:200902136460855749
整理番号:94A0192171
Oxidation Simulation and Growth Kinetics of Thin SiO2 in Pure N2O.
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著者 (2件):
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資料名:
ページ:
169-172
発行年:
1993年
JST資料番号:
K19940113
ISBN:
3-211-82504-5
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
オーストリア (AUT)
言語:
英語 (EN)
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