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J-GLOBAL ID：200902136898963757   整理番号：03A0046508

プラズマ支援原子層蒸着による立方晶TaN薄膜の成長

Growth of cubic-TaN thin films by plasma-enhanced atomic layer deposition.

著者 (3件)： KIM H (IBM T.J. Watson Res. Center, New York) ,  KELLOCK A J (IBM Almaden Res. Center, California) ,  ROSSNAGEL S M (IBM T.J. Watson Res. Center, New York)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 92  号： 12  ページ： 7080-7085  発行年： 2002年12月15日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： TaCl₅前駆体と水素/窒素プラズマを...

シソーラス用語： *タンタル化合物 ,...
準シソーラス用語： 窒化タンタル ,...

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分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (6件)： プラズマ ,  支援 ,  原子層蒸着 ,  立方晶 ,  薄膜 ,  成長