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J-GLOBAL ID：200902137076895870   整理番号：01A0052624

高密度フルオロカーボンプラズマ中でのキセロゲルのエッチング

Etching of xerogel in high-density fluorocarbon plasmas.

著者 (7件)： STANDAERT T E F M (State Univ. New York at Albany, New York) ,  JOSEPH E A (State Univ. New York at Albany, New York) ,  OEHRLEIN G S (State Univ. New York at Albany, New York) ,  JAIN A (Rensselaer Polytechnic Inst., New York) ,  GILL W N (Rensselaer Polytechnic Inst., New York) ,  WAYNER P C JR (Rensselaer Polytechnic Inst., New York) ,  PLAWSKY J L (Rensselaer Polytechnic Inst., New York)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 18  号： 6  ページ： 2742-2748  発行年： 2000年11月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高密度フルオロカーボンプラズマ中の種々のキセロゲル膜のエッチ...

シソーラス用語： *キセロゲル ,...
準シソーラス用語： 間隙率 ,...

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分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (2件)： テトラフルオロメタン ,  トリフルオロメタン

タイトルに関連する用語 (4件)： フルオロカーボン ,  プラズマ ,  キセロゲル ,  エッチング