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J-GLOBAL ID：200902138527369170   整理番号：94A0195624

Pイオン注入SiO₂/Si構造の欠陥 (ESR評価)

Defect structures produced in P ion implanted SiO₂/Si (ESR study).

著者 (5件)： 小林敏彦 (東海大 工) ,  和泉富雄 (東海大 工) ,  松森徳衛 (東海大 工) ,  村山淳一 (新電元工業) ,  森泉雄 (東根新電元工業)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 54th  号： 2  ページ： 664  発行年： 1993年09月 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (7件)： Pイオン ,  注入 ,  SiO2 ,  Si ,  欠陥 ,  ESR ,  評価