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J-GLOBAL ID：200902138779082702   整理番号：01A0552164

シンクロトロン放射光アブレーションによる機能性炭素化合物薄膜の作製

Deposition of functional carbon compound thin films by synchrotron radiation ablation.

著者 (6件)： MIKI H (Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN) ,  LIN S (Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN) ,  SASAKI M (Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN) ,  KATOH T (Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN) ,  IMAI S (Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN) ,  NAKAYAMA Y (Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN)
資料名： Diamond and Related Materials  (Diamond and Related Materials)
巻： 10  号： 3/7  ページ： 937-941  発行年： 2001年03月 
JST資料番号： W0498A  ISSN： 0925-9635  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Ritsシンクロトロン放射光源を用いたアブレーションにより様...

シソーラス用語： シンクロトロン放射 ,...

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分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (4件)： アセトン ,  アセトアルデヒド ,  メチルアルコール ,  オクタン

タイトルに関連する用語 (6件)： シンクロトロン放射光 ,  アブレーション ,  機能性 ,  炭素化合物 ,  薄膜 ,  作製