レーザ誘起化学蒸着による窒化炭素薄膜の合成と評価

CRUNTEANU A; CHARBONNIER M; ROMAND M; VASILIU F; PANTELICA D; NEGOITA F; ALEXANDRESCU R

文献

J-GLOBAL ID：200902138839891834 整理番号：00A0549888

レーザ誘起化学蒸着による窒化炭素薄膜の合成と評価

Synthesis and characterization of carbon nitride thin films obtained by laser induced chemical vapour deposition.

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Surface & Coatings Technology (Surface & Coatings Technology)

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巻： 125 号： 1/3 ページ： 301-307 発行年： 2000年03月
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

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ArFエキシマレーザによるC<sub>2</sub>H<su...

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