レーザCVD蒸着した窒化チタン薄膜

文献

J-GLOBAL ID：200902138841487145 整理番号：96A1029259

Titanium nitride thin film deposition by laser CVD.

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資料名：
巻： 106 ページ： 268-274 発行年： 1996年10月
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

鋼基板に窒化チタンコーティングを蒸着するためのレーザCVDの...

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