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J-GLOBAL ID：200902138949508734   整理番号：00A0394777

電解・生物法による半導体用フォトレジスト原料製造工程廃液の処理

Electrochemical and Biological Treatment of Westewater from Manufacturing Process of a Photoresist Substrate for Semiconductors.

著者 (4件)： 村上定瞭 (宇部工高専) ,  竹内正美 (宇部工高専) ,  三浦美紀 (宇部工高専) ,  谷口稔 (宇部工高専)
資料名： 環境技術  (Journal of Environmental Conservation Engineering)
巻： 29  号： 3  ページ： 207-214  発行年： 2000年03月20日 
JST資料番号： S0796A  ISSN： 0388-9459  CODEN： KAGIDX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 2,3,4,4′-テトラヒドロキシベンゾフェノン(THBP)...

シソーラス用語： 半導体 ,...
準シソーラス用語： 活性塩素 ,...

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分類 (1件)： 産業廃水処理  (SC03080D)

物質索引 (1件)： 2,3,4,4′-テトラヒドロキシベンゾフェノン

引用文献 (8件)：

• 山岡亜夫. 感光性樹脂. 1988, 43
• BOBER, T. W. Ozonation of photographic processing wastes. Journal WPCF. 1975, 47, 8, 2114-2129
• NARKIS, N. Evaluation of ozone induced bio-degradability of wastewater treatment plant effluent. Water Research. 1980, 14, 929-939
• 宗宮功. 水中有機物のオゾン処理による反応生成物について. 衛生化学. 1987, 33, 6, 365-384
• 竹内正美. 写真廃液処理中の生物難分解性物質のオゾン処理. 環境工学研究論文集. 1991, 30, 175-186

タイトルに関連する用語 (6件)： 電解 ,  生物 ,  フォトレジスト ,  原料 ,  製造工程 ,  廃液