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J-GLOBAL ID：200902140001708820   整理番号：02A0437545

BiVO4の化学浴析出

Chemical bath deposition of BiVO4.
著者 (2件)：
NEVES M C

NEVES M C について

(Univ. Aveiro, Aveiro, PRT)

Univ. Aveiro, Aveiro, PRT について

, 
TRINDADE T

TRINDADE T について

(Univ. Aveiro, Aveiro, PRT)

Univ. Aveiro, Aveiro, PRT について


資料名：
Thin Solid Films  (Thin Solid Films)

Thin Solid Films について


巻： 406  号： 1/2  ページ： 93-97  発行年： 2002年03月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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ガラス基板上にBiVO4コーティングを...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*ビスマス化合物

ビスマス化合物 について

,...
準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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化学浴析出

化学浴析出 について


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分類 (2件)：
分類
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酸化物薄膜 
(BK14050P)

酸化物薄膜 について

,  非金属材料へのセラミック被覆 
(YC02040K)

非金属材料へのセラミック被覆 について

物質索引 (1件)：
物質索引
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EDTA

EDTA について

タイトルに関連する用語 (2件)：
タイトルに関連する用語
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BiVO4

BiVO4 について

, 
化学浴析出

化学浴析出 について


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