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J-GLOBAL ID：200902140592408455   整理番号：93A0798257

直径<10nmの大きなアスペクト比をもつシリコン柱の作製

Fabrication of high aspect ratio silicon pillars of <10 nm diameter.

著者 (2件)： CHEN W (Univ. Cambridge, Cambridge, GBR) ,  AHMED H (Univ. Cambridge, Cambridge, GBR)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 63  号： 8  ページ： 1116-1118  発行年： 1993年08月23日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標記シリコン柱を湿式化学エッチングを使用せずに作製した。80...

シソーラス用語： ケイ素 ,...

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分類 (2件)： 電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X) ,  半導体のルミネセンス  (BM08092S)

タイトルに関連する用語 (4件)： 直径 ,  アスペクト比 ,  シリコン ,  作製